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物理氣相沉積 (PVD )

作者:心靜來源:半導體網(wǎng)址:http://www.zjjkfund.cn/

設備名稱:物理氣相沉積 (PVD )

商品編號:T00443

制造商:應用材料(AMAT)

型號:Endura II

年份:2006年

物理氣相沉積 (PVD ) Endura II:Configuration

1、FI: 5.3:FI Robot: KAWASAKI、FIS: 0190-22269、FES: 0190-17956   Buffer & Xfer Robot: XP Robo、Cryo Compressor: CTI IS-1000 x2set

Ch-1: NA

Ch-2: Ti, DC Power Supply: ENI DCG-200E OPTIMA

Ch-3: TiN DC Power Supply: ENI DCG-200E OPTIMA

Ch-4: TiN DC Power Supply: ENI DCG-200E OPTIMA

Ch-5: NA

Ch-A: Pass

Ch-B: Cool

Ch-C: PC-XT RF Generator: COMDEL CDX-2000

Ch-D: PC-XT RF Generator: COMDEL CDX-2000

Ch-E: Degas (Single Heat)

Ch-F: Degas (Single Heat)

2、Missing Parts:HDD

物理氣相沉積設備1.png物理氣相沉積設備2.png

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