?200mm 兼容曝光機 MA-4301M 日本進*口

新設備：?200mm 兼容曝光機 MA-4301M；制造商：日本制造商

簡介：

主要特長：利用本公司**的高速圖像處理技術, 實現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對位。裝載機側和卸載機側最多可設置兩個籃具（選購項）。備有冷卻機構，可進行基板臺與掩膜的溫度管理（選購項）。搭載本公司**的鏡面光學系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。

從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。搭載非接觸預對位系統(tǒng)（PREALIGNER）。從而實現(xiàn)了高精度進給且保證基板不受任何損傷。搭載有自動掩膜更換機。并可支持掩膜存放庫。

主要規(guī)格：

1、Wafer材料：Si,Glass

2、Wafer尺寸：Φ6″ × t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm、Φ8″ × t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm

3、節(jié)拍時間：Proximity exposure：19 s/wafer、(One parallelism compensation per lot)

4、間隙：1 to 200 μm Servo motor、Setup resolution：1 μm

5、對位精度：自動對位：+/- 1 μm(Peak search)

6、尺寸?重量：本體尺寸：W 1800 × D 1650 × H 2015 mm

7、總重量(including lamp house)：1400 kg

8、曝光方式：Soft contact exposure、Hard

contact exposure、Proximity exposure

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