?200mm 兼容曝光機(jī) MA-4301M 日本進(jìn)*口

新設(shè)備：?200mm 兼容曝光機(jī) MA-4301M；制造商：日本制造商

簡介：

主要特長：利用本公司**的高速圖像處理技術(shù), 實(shí)現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對(duì)位。裝載機(jī)側(cè)和卸載機(jī)側(cè)最多可設(shè)置兩個(gè)籃具（選購項(xiàng)）。備有冷卻機(jī)構(gòu)，可進(jìn)行基板臺(tái)與掩膜的溫度管理（選購項(xiàng)）。搭載本公司**的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。

從而實(shí)現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。搭載非接觸預(yù)對(duì)位系統(tǒng)（PREALIGNER）。從而實(shí)現(xiàn)了高精度進(jìn)給且保證基板不受任何損傷。搭載有自動(dòng)掩膜更換機(jī)。并可支持掩膜存放庫。

主要規(guī)格：

1、Wafer材料：Si,Glass

2、Wafer尺寸：Φ6″ × t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm、Φ8″ × t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm

3、節(jié)拍時(shí)間：Proximity exposure：19 s/wafer、(One parallelism compensation per lot)

4、間隙：1 to 200 μm Servo motor、Setup resolution：1 μm

5、對(duì)位精度：自動(dòng)對(duì)位：+/- 1 μm(Peak search)

6、尺寸?重量：本體尺寸：W 1800 × D 1650 × H 2015 mm

7、總重量(including lamp house)：1400 kg

8、曝光方式：Soft contact exposure、Hard

contact exposure、Proximity exposure

兼營銷售二手半導(dǎo)體相關(guān)進(jìn)口設(shè)備，全新半導(dǎo)體設(shè)備，歡迎咨詢：18938163036

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